用磁控濺射鍍膜設(shè)備制備出的濺射薄膜具有如下特點(diǎn)：
    1、膜厚可控性和重復(fù)性好
    可控性指的是膜層的厚度是否可以控制在預(yù)定的數(shù)值上，重復(fù)性指的是所需的膜層厚度的重復(fù)性再現(xiàn)。由于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放電電流和靶電流是分別控制的，所以控制靶電流可以控制膜厚。
    2、薄膜與基片的附著力強(qiáng)
    濺射原子能量比蒸發(fā)的高，所以沉積在基片上的能量轉(zhuǎn)換也高，產(chǎn)生的熱能也高，這提高了薄膜的附著能力。
    3、可制備特殊材料的薄膜
    幾乎所以的固體都可用該法制備薄膜。還可以將不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜。若使用不同的材料次序濺射，可制備多層膜。
    4、膜層純度高
    由于不需要借助坩堝構(gòu)件，所以膜層中不會混入加熱材料的成份，純度高。

真空鍍膜技術(shù)是一項極具潛力的技術(shù)

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

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