真空鍍膜機是用于真空鍍的設備。真空鍍一般包括有濺射鍍、蒸鍍和離子鍍三種類型，具體做法都是在真空條件下，通過采用蒸餾或者濺射等方式來沉積薄膜在塑件的表面，這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，具有速度快的突出優(yōu)點，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功 能性鍍層。傳統(tǒng)的水電鍍，伴隨著高污染、高成本，已經(jīng)慢慢逐步被市場所淘汰，而新興的真空鍍技術，由于所有鍍 層材料是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，不存在溶液污染，對環(huán)境零污染；另外真空鍍的真空涂層相比傳統(tǒng)水電鍍致密度、耐腐蝕性能大大改善，沉積的鍍層厚度更是遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，既節(jié)約材料，同時降低了 成本；還有傳統(tǒng)水電鍍無法比擬的一點是真空鍍沉積的材料廣泛，可沉積鋁、鈦、鋯等傳統(tǒng)水電鍍無法沉積的低電位 金屬，若是加以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，還可根據(jù)需要設計涂層體系。 一點美中不足的是真空鍍的鍍層附著力比水電鍍差很多，正因為如此，水電鍍還未徹底消失，不過相信不久的將來， 這一缺點也會被修正，到時候真空鍍會徹底取代水電鍍，因此真空鍍的發(fā)展前景會非常光明。 

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