真空電鍍?cè)O(shè)備是指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延等很多種，不過(guò)比較常見(jiàn)是蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜一般是通過(guò)加熱靶材使靶材表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，使其沉降在基片表面，通過(guò)進(jìn)一步的成膜過(guò)程形成薄膜。 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，我們可以理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且使其沉積在基片表面，經(jīng)歷進(jìn)一步成膜過(guò)程，最終形成薄膜。兩種方式需要在較高真空環(huán)境下進(jìn)行，故叫真空鍍膜技術(shù)。真空電鍍相比傳統(tǒng)水電鍍，發(fā)展?jié)摿茫瑢?duì)環(huán)境污染小，成本較低，做出來(lái)的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高，為各行業(yè)廣泛采用。 

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