真空電鍍是即在真空狀態(tài)下注入氬氣，通過氬氣撞擊靶材，使得靶材分離成分子被導電的基片吸附形成一層均勻光滑的表面層。真空電鍍分真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍等幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在基片表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，真空電鍍可以得到非常薄的表面鍍層，同時電鍍速度快且鍍層附著力好。現(xiàn)在普遍常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝主要有水電鍍和真空離子鍍。水電鍍是利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術(shù)。水電鍍不僅成本較高，而且對環(huán)境污染大，逐步地被人們所淘汰，而離子鍍膜機生產(chǎn)出的產(chǎn)品不僅金屬感強，亮度高，重要是成本較低，對環(huán)境污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用。
